超純水設(shè)備能夠連續(xù)穩(wěn)定地制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水，其占地非常小，可以為企業(yè)節(jié)省很多空間，在符合硅晶圓生產(chǎn)用水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)的同時(shí)可以使水資源的利用率達(dá)到≥80%，有效提升了水資源利用率。...

萊特萊德·環(huán)境與大家相聚于這場(chǎng)盛會(huì)，我們共同探討行業(yè)前沿技術(shù)，共創(chuàng)新機(jī)遇，共謀合作機(jī)會(huì)，在此次大會(huì)中感受到半導(dǎo)體行業(yè)的生命力。...

超純水設(shè)備可生產(chǎn)出芯片生產(chǎn)過(guò)程中的清洗用水超純水，保證了芯片的良品率。采用雙反滲透、EDI、拋光混合床相結(jié)合的制水工藝，具有水利用率高、運(yùn)行可靠、經(jīng)濟(jì)合理等特點(diǎn)。...

萊特萊德超純水設(shè)備具有出水連續(xù)、無(wú)酸堿再生、無(wú)人值守、安裝簡(jiǎn)單、操作方便等優(yōu)點(diǎn)。出水水質(zhì)符合半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)。...

萊特萊德超純水設(shè)備生產(chǎn)的超純水的電阻率可達(dá)到18MΩ*cm(25℃)，完全符合集成電路清洗用水要求。...

芯片產(chǎn)業(yè)應(yīng)用的超純水設(shè)備摒棄了傳統(tǒng)工藝，核心是采用的膜分離技術(shù)，應(yīng)用反滲透工藝與EDI和精處理混床工藝來(lái)生產(chǎn)超純水，不僅產(chǎn)水量增加，出水水質(zhì)能夠滿足ASTM D5127-13中E1.3標(biāo)準(zhǔn)， 滿足了芯片行業(yè)用水...